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硅片氧化过程流程图

2016-09-10 15:02:12 0 举报
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硅片氧化过程流程图描述如下： 1. 首先，将硅片放入氧化炉中。 2. 然后，将氧气引入氧化炉中，使硅片表面发生氧化反应。 3. 随着氧化反应的进行，硅片表面的二氧化硅层逐渐增厚。 4. 当达到所需的氧化厚度时，停止通入氧气。 5. 最后，将硅片从氧化炉中取出，并进行后续处理。
作者其他创作
大纲/内容
通入氮气降温
推进硅片
通入氮气升温
取出硅片
60cm/min
1.2~2h
通入氧气氧化
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