流片

流片，即集成电路的制造过程，是将电路设计图转化为实际硅片的过程。这个过程包括光刻、蚀刻、扩散、离子注入等多个步骤。首先，设计师会根据电路需求绘制出电路图，然后通过计算机辅助设计软件进行优化和模拟。接下来，将电路图转化为光刻版图，通过光刻机将版图投射到硅片上。之后，利用化学方法对硅片进行蚀刻，去除不需要的部分，形成电路图案。最后，通过扩散和离子注入等工艺，改变硅片局部区域的导电性，实现电路的功能。流片是集成电路制造的核心环节，其质量直接影响到芯片的性能和可靠性。