首页 流程图 详情

刻蚀

2017-03-28 15:33:45 0 举报
仅支持查看
123
思维导图
作者其他创作
大纲/内容
仿真与设计
二步刻蚀方案
LPCVD沉积氮化硅
各向异性湿法刻蚀
获得样品
去除掩膜
一步刻蚀方案
套刻工艺转移图形
光刻转移图形
掩膜版设计与制作
热氧化二次成膜或LPCVD二次成膜
二次各向异性湿法刻蚀
评论
0 条评论
下一页
为你推荐
查看更多
国产半导体
国产半导体
集成电路工艺图
集成电路工艺图
半导体产业链结构
半导体产业链结构
半导体产业链
半导体产业链